• 왼쪽 패널: Hierarchy(표시 레벨과 배치된 셀의 트리), Layers, 현재 도구의 옵션.
• 툴바: 실행 취소 / 다시 실행, 도구(Select, Stretch, Move, Copy, Rectangle, Polygon, Path, Label, Via, Instance, Chop, Ruler), 맞춤(fit), Zoom box, Prev view, Grid, Snap, Gravity, DRD, Constraints, Magnet, Live DRC, Flylines, 그리고 셀을 내보내는 GDS.
• 상태 표시줄: 커서의 X / Y, 명령 진행 중에는 기준점으로부터의 dX, dY, Dist, Sel: n(부분 선택이면 Sel(P): n), 현재 도구를 나타내는 Cmd:, 그리고 각 마우스 버튼이 지금 하는 일을 알려 주는 mouse L: … M: … R: … 줄.
• 오른쪽 패널: 셀 통계 또는 인스펙터, Edit 작업, Layer operations, 검증 섹션 (검증 참고).

레이어

• 레이어 행을 클릭하면 활성 레이어가 됩니다. 새 도형은 이 레이어에 그려집니다.
• 눈 아이콘을 클릭하면 레이어를 보이거나 숨깁니다. 눈 왼쪽의 작은 상자를 클릭하면 레이어의 선택 가능 여부를 바꿉니다. 선택할 수 없는(또는 숨긴) 레이어의 도형은 그려지지만 선택되지 않습니다(Virtuoso의 LSW와 같습니다). AV / NV는 모든 레이어를 보이기 / 숨기기, AS / NS는 모든 레이어를 선택 가능 / 불가능하게 합니다.
• Filter는 이름으로 목록을 좁히고, Instances selectable은 배치된 셀을 선택할 수 있는지 정합니다.
• 각 행에는 채우기 패턴, 이름, GDS layer/datatype이 표시됩니다. 행 위에 마우스를 올리면 최소 폭과 간격이 보입니다.

그리기

키는 마우스가 캔버스 위에 있을 때만 캔버스에 적용됩니다.

폴리곤이나 패스를 그리는 동안 Backspace는 마지막 점을 지우고 Esc는 취소합니다.

• Gravity(기본으로 켜짐, G로 전환)는 커서를 주변 도형과 인스턴스 박스의 꼭짓점(마름모 표시)과 변(원 표시)에 스냅하여 새 도형이 정확히 맞닿게 합니다.

• DRD(디자인 룰 기반 편집, 기본으로 켜짐)는 그리는 중인 사각형의 최소 간격 후광을 보여 주고, 같은 레이어 도형과의 간격이 최소 간격보다 좁은 곳과 최소 폭보다 좁은 도형을 빨간색으로 표시합니다. 사각형과 패스를 그릴 때, 이동, 복사, 붙여넣기 중에 동작합니다. 배치된 셀 안의 이웃 도형(깊이와 무관)과 제자리 편집 중인 셀 주변 도형도 포함하며, 이동하거나 붙여넣는 인스턴스는 외곽선을 따라 있는 도형으로 검사합니다.

• Magnet(기본으로 켜짐)은 그리거나 옮기는 도형이 이웃에 가까워지면 정확히 최소 간격 위치로 끌어당깁니다.

• Live DRC(기본으로 켜짐)는 편집할 때마다 주변을 룰 덱으로 검사합니다. Live DRC 참고.

• 레이어 탭: T는 커서 아래 도형의 레이어를 활성 레이어로 만듭니다.

• 배선 중 메탈 변경: Path 도구에서 +(또는 = / PageUp)를 누르면 커서 위치에서 패스를 끝내고, 위쪽 배선 레이어로 가는 비아를 놓은 뒤 그 레이어에서 이어 그립니다. -(또는 PageDown)는 아래로 내려갑니다.

• 폴리곤은 기본적으로 맨해튼입니다. 각 점은 이전 점과 수평 또는 수직으로 정렬됩니다. 클릭할 때 Shift(또는 Ctrl)를 누르면 임의 각도가 됩니다. 닫는 변에는 모서리가 하나 추가되어 맨해튼 외곽선이 유지됩니다.

• 패스는 항상 맨해튼입니다. 왼쪽 패널의 **Width (nm)**가 폭을 정하며, 0이면 레이어의 최소 폭을 씁니다. 패스 끝은 폭의 절반만큼 연장됩니다.

• 배선 레이어 위의 라벨은 그 아래 넷의 이름이 됩니다(추출과 LVS에서 사용).

• 비아는 테크놀로지에서 정의됩니다(아래 레이어, 컷, 위 레이어). 영역을 드래그하면 들어갈 수 있는 만큼 컷을 채웁니다.

사각형 그리기 단계별 안내

1. Layers에서 metal1 행을 클릭합니다.
2. R을 누르고 캔버스에서 드래그합니다.
3. Esc를 눌러 Select로 돌아간 뒤 사각형을 클릭하고 인스펙터에 정확한 좌표(x0, y0, x1, y1, 단위 µm)를 입력합니다.

선택과 편집

부분 선택

F4(또는 Edit > Toggle Partial Select)로 부분 선택을 켜고 끕니다. Select에서 변 근처를 클릭하면 그 변(양 끝 꼭짓점) 또는 꼭짓점이 선택되고, Shift+클릭은 추가 / 제거하며, 드래그 박스는 안쪽 꼭짓점을 선택합니다(완전히 안에 든 항목은 통째로 선택). 선택된 변과 꼭짓점은 강조되고 상태 표시줄에 Sel(P): n이 표시됩니다.

S를 누르고 기준점, 목적지를 차례로 클릭하면 선택된 모든 꼭짓점이 이동하며, 맨해튼 도형은 맨해튼으로 유지됩니다(인접한 변이 따라 미끄러짐). Select에서 부분 선택된 도형을 드래그해도 늘어납니다. Esc는 부분 선택을 지웁니다.

폼

각 키는 떠 있는 폼을 열고, 다시 누르면 닫습니다.

오른쪽 패널의 Edit 섹션(무언가 선택했을 때 표시)에는 다음 기능도 있습니다.

• Flatten: 선택한 인스턴스를 그 내용으로 바꿉니다(한 단계).
• Make cell: 선택 항목을 새 셀로 옮기고 그 셀의 인스턴스를 배치합니다.
• Merge: 선택한 도형을 레이어별로 합칩니다.
• Size와 Apply: 선택한 도형을 키우거나(양수 µm) 줄입니다(음수).
• Align(두 개 이상): 왼쪽, 가운데, 오른쪽 변 또는 아래, 가운데, 위 변을 정렬합니다. Space X / Space Y는 세 개 이상의 항목을 같은 간격으로 벌립니다.

화면 이동

위는 기본값인 Virtuoso 상호작용 프로필입니다. Conventional(Settings > Interaction)에서는 휠이 확대 / 축소하고 오른쪽 드래그가 화면을 이동합니다.

바인드키는 마우스가 캔버스 위에 있을 때 캔버스로 전달되며, 캔버스의 폼(q, F3, e, Shift+E)이 위에 열려 있는 동안에도 창의 다른 곳을 클릭할 때까지 유지됩니다. 입력 중인 텍스트 필드나 마우스 아래 폼의 포커스된 컨트롤이 키를 먼저 받습니다.

레이어 연산

선택한 것이 없을 때 Layer operations는 불리언 결과를 계산합니다.

1. 레이어 A, Operation(AND, OR, NOT, XOR, SIZE), 레이어 B(SIZE는 거리 By, µm)를 고릅니다.
2. Output 레이어를 고릅니다.
3. 배치된 셀까지 포함하려면 **Include hierarchy (flattened)**를 체크한 채로 둡니다.
4. Run을 누릅니다. 결과 도형이 출력 레이어에 추가되고 선택됩니다.

불리언 연산, Merge, Size, Chop은 임의 각도 도형(45° 및 임의의 변, GDS / OASIS 또는 폴리곤 도구에서 온 도형)을 정확히 처리합니다. 그리드 점 사이에 떨어지는 교차점은 가장 가까운 데이터베이스 단위로 스냅됩니다. 크기를 조정할 때 수평, 수직, 45° 변은 주어진 거리만큼 움직이고 90° 이상인 모서리는 뾰족하게 유지됩니다. 구멍이 있는 결과는 구멍 없는 폴리곤으로 나뉩니다.

제약 조건, 컴팩션, 비교

이 명령들은 메뉴나 바인드키가 없습니다. 명령 팔레트에서 “Layout Assist: “으로 실행합니다.

• Symmetric About Vertical / Horizontal Axis, Keep Left / Bottom Edges Aligned, Keep Centres Aligned Vertically / Horizontally, Fix In Place는 선택한 항목에 제약 조건을 추가합니다. 구성원 하나를 옮기면 제약이 유지되도록 나머지도 따라 움직입니다. Infer Constraints From Schematic은 회로도의 매칭 소자에 대칭 제약을 추가하고, Remove Constraints는 제약을 지웁니다. 툴바의 Constraints 체크박스는 제약을 화면에 그리며, 오른쪽 패널의 Constraints 섹션은 제약을 나열하고 더 이상 만족하지 않는 제약에 Snap을 제공합니다.
• **Compact (Left, Then Down)**와 Compact Left / Right / Down / Up은 셀의 최상위 항목을 간격 룰이 허용하는 한 한쪽으로 밀어 붙입니다. 연결된 도형과 제약 조건의 구성원은 함께 움직입니다.
• Compare With Saved와 Compare With Git HEAD는 마지막 저장 또는 마지막 커밋 이후 추가되고 삭제된 도형을 그립니다. Next Difference로 차이를 하나씩 이동합니다.

계층

셀 또는 배열 배치

1. I를 누릅니다. 왼쪽 패널에 PCell 변형과 Place cell(순환을 만들지 않는 레이아웃을 가진 다른 모든 셀)이 나열됩니다.
2. 셀을 고르고 Rotation, Mirror about x, Columns, Rows를 설정합니다. 배열 요소는 셀 범위에서 맞닿습니다.
3. 클릭해 배치합니다.

인스턴스를 선택하면 인스펙터에서 위치, 회전, 미러링을 편집할 수 있습니다. Array를 체크하면 Columns, Rows, Column pitch, Row pitch를 가진 배열(GDS AREF)이 됩니다.

표시 깊이

Hierarchy의 levels 필드(키 0~8, 모든 레벨은 9)는 배치된 셀을 몇 단계까지 내용과 함께 그릴지 정합니다(Shift+F 모든 레벨, Ctrl+F 최상위만). 더 깊은 인스턴스는 이름이 붙은 박스로 그려집니다. 없는 셀은 빨간색으로 그려집니다.

큰 설계도 빠르게 유지됩니다. 화면에서 작은 셀은 박스로, 아주 작은 도형은 점으로 축약됩니다.

계층 트리(Edit > Hierarchy Tree, Shift+T)는 현재 셀에 배치된 셀을 개수와 함께 나열하며, 클릭하면 그 셀을 엽니다. Tools > Hierarchy Browser는 프로젝트 전체의 레이아웃 계층과 사용처 목록을 보여 줍니다(도구 참고).

생성기와 필

Tools 메뉴는 활성 레이아웃에 도형을 추가하는 기능도 제공하며, 각각 한 번에 실행 취소할 수 있는 단계로 처리됩니다.

• Layout Generators > Guard Ring: 영역 또는 선택 항목 둘레에 콘택과 metal1 스트랩을 갖춘 p+ 기판 링 또는 n+ nwell 링;
• Layout Generators > Via Array: 두 레이어가 겹치는 모든 곳, 또는 지정 영역을 채우는 비아 배열;
• Layout Generators > Matched Placement: 매칭 트랜지스터를 더미와 함께 common-centroid, interdigitated 또는 2-D common-centroid로 배치;
• Layout Generators > By Example: 같은 회로를 가진 완성 셀(토폴로지로 매칭)처럼 소자를 배치하고 웰, 임플란트, 탭을 복사하며 선택적으로 배선;
• Dummy Fill: 밀도 룰을 맞추도록 사각형 필을 채움.

옵션은 도구를 참고하세요.

PCell

파라미터 셀(nmos, pmos, poly_res, mom_cap, 탭 ntap / ptap)은 테크놀로지로부터 생성되어 pcells 라이브러리에 일반 셀로 저장됩니다(예: nmos_w1000_l180_nf2). 배치하려면 I를 누르고 왼쪽 패널에서 PCell을 고른 뒤 파라미터를 설정하고 클릭합니다. 배치된 PCell을 바꾸려면 선택한 뒤 인스펙터의 PCell 섹션에서 파라미터를 편집하고 Apply를 누릅니다.

PCell과 커스텀 소자에서 파라미터, 변형 저장 방식, PDK가 제공해야 하는 것, 추출이 이해하는 소자 형태(L자형, U자형 액티브 포함), SKILL로 직접 소자 생성기를 작성하는 방법을 다룹니다.

SKILL 스크립트

**Tools > Load SKILL (.il)**은 프로젝트에 Cadence SKILL 파일을 실행합니다. ics skill과 MCP 도구 run_skill은 명령줄과 에이전트에서 같은 일을 합니다. 출력은 로그로 가고, 변경된 모든 레이아웃은 실행 취소할 수 있으며, geGetEditCellView()는 편집기에 열린 셀을 반환합니다.

하단 패널의 CIW 탭(Tools > SKILL CIW, 또는 명령 팔레트의 “CIW”)은 Virtuoso의 Command Interpreter Window와 같은 대화형 SKILL 프롬프트입니다. 변수, 프로시저, 열린 셀뷰는 명령 사이에 유지되며 Tools > Load SKILL로 불러온 파일에서 정의한 모든 것을 포함합니다. 다른 프로젝트를 열면 새 세션이 시작됩니다. Enter는 줄을 실행하고, 괄호나 문자열이 닫히지 않은 줄은 다음 줄로 이어지며(프롬프트에 ... 표시), Up / Down으로 이전 명령을 불러옵니다.

cv = dbOpenCellViewByType("work" "pad" "layout" "maskLayout" "w")
for(i 0 3
  dbCreateRect(cv list("metal1" "drawing") list(i*2:0 i*2+1:1)))
dbCreateInstByMasterName(cv "work" "via_cell" "layout" "I0" 0:5 "R90")
printf("%d shapes\n" length(cv~>shapes))

지원 범위:

• 문법: C 스타일 f(a b)와 Lisp (f a b) 호출, 중위 연산자, x:y 점, obj~>prop, tbl[key], 'quote, ?key 인자, ;와 /* */ 주석, 1.5u 같은 스케일 접미사;
• 제어: if / then / else, when, unless, cond, case, while, for, foreach (mapcar와 테이블도), let, prog / return, setof, exists, errset, error;
• @optional, @key, @rest를 쓰는 procedure / defun, lambda, funcall, apply, mapcar, load; 리스트, 문자열, 수학, printf / sprintf 내장 함수, makeTable 테이블, disembodied property list;
• 레이아웃: dbOpenCellViewByType("r", "w"는 레이아웃을 비움, "a"는 추가. 라이브러리와 셀은 필요할 때 생성), dbCreateRect, dbCreatePolygon, dbCreatePath, dbCreateLabel, dbCreateInst, dbCreateInstByMasterName, dbCreateSimpleMosaic, dbDeleteObject, dbMoveFig, dbCopyFig, dbFindAnyInstByName, dbGetOverlaps, dbTransformPoint / dbTransformBBox; 레이어 불리언 연산 dbLayerAnd, dbLayerOr, dbLayerXor, dbLayerAndNot(cv layer shapes1 shapes2)과 dbLayerSize(cv layer shapes size)는 결과를 layer에 추가하고 새 도형을 반환(임의 각도 도형 포함); dbSave와 dbClose는 아무 일도 하지 않음(프로젝트를 저장하세요). 도형, 인스턴스, 셀뷰의 속성(bBox, points, layerName, xy, orient, shapes, instances 등)은 읽을 수 있고, 기하 속성은 설정할 수도 있음.

좌표 단위는 µm입니다. 레이어는 이름, list(name purpose) 또는 레이어 인덱스로 지정합니다. drawing 이외의 purpose는 먼저 name.purpose 또는 name_purpose라는 이름의 레이어를 찾습니다. 변수는 .il 파일처럼 동적 스코프를 가집니다. 지원하지 않는 것: 회로도 뷰, PCell 정의 (pcDefinePCell. 직접 만드는 소자 생성기 참고), 대화형 hi* / le* 폼, SKILL++(.ils)의 렉시컬 스코프.

GDSII

• **File > Import > GDSII / OASIS…**는 GDS 또는 OASIS 파일을 전체 계층과 함께 새 라이브러리로 읽습니다.
• 툴바의 GDS 또는 **File > Export > Cell GDSII…**는 셀과 그 셀이 배치하는 모든 셀을 씁니다. **Export > Library GDSII…**는 프로젝트의 모든 레이아웃을 씁니다. **Cell OASIS…**와 **Library OASIS…**는 OASIS로 씁니다.

레이어는 GDS layer / datatype으로 매핑됩니다. 테크놀로지에 없는 레이어는 가져올 때 테크놀로지에 추가되므로 잃어버리는 것이 없습니다. 스트림 레이어 맵(Tools > Stream Layer Map, 또는 Virtuoso 레이어 맵 파일)은 내보낼 때 레이어 번호를 바꾸고, 가져올 때 다른 번호를 테크놀로지 레이어에 매핑하거나 버립니다.

LEF와 DEF

LEF 추상(abstract)과 DEF 배치로 OpenROAD 같은 배치 배선 도구와 블록을 주고받습니다.

• 추상: LEF는 테크놀로지 헤더(단위, 그리드, 배선 및 컷 레이어, 기본 비아)로 시작합니다. 각 매크로에는 CLASS, ORIGIN, SIZE(boundary 레이어의 범위, 없으면 셀 전체 범위), 라벨이 붙은 넷마다 배선 레이어 위 도형을 PORT로 가진 PIN(DIRECTION은 그 핀이 구동하거나 구동받는 소자에서 결정, 전원 이름은 USE POWER / GROUND), 그리고 나머지 메탈과 배선 레이어 사이 컷을 위한 OBS가 들어갑니다. 장애물(obstruction)은 병합된 도형(detailed, 기본값), 핀 주변의 레이어별 블록 하나(block), 또는 없음 중에서 고릅니다. 폴리와 확산은 제외됩니다.
• LEF 가져오기는 매크로마다 레이아웃 셀 하나를 만듭니다. boundary 레이어의 박스, 핀 이름 라벨이 붙은 핀 포트, 장애물이 들어갑니다. LEF 레이어 이름은 이름 또는 정규화된 형태로 테크놀로지 레이어에 매칭됩니다(M1, met1, metal1은 같은 레이어).
• DEF 내보내기는 다이 영역, 컴포넌트(배치된 셀. 배열 요소는 name_i_j가 됨), 핀(최상위 라벨), 배치된 셀의 핀 사이 넷을 씁니다. --lef는 배치된 셀의 추상도 함께 씁니다.
• DEF 가져오기는 컴포넌트의 매크로 이름에 해당하는 프로젝트 셀(--lib의 셀 우선, 기본값 work)을 배치하는 최상위 셀을 만들고, 핀 도형과 라벨, boundary 레이어의 다이 영역을 넣습니다. 셀이 없는 매크로는 보고됩니다.

MCP에서는 export_lef, import_lef, export_def, import_def가 같은 일을 합니다.